型號：XHE系列

精密光學電子槍蒸鍍系統(tǒng)，專門為光學薄膜器件鍍膜而設計，各系統(tǒng)設計和整體結(jié)構(gòu)滿足光學薄膜生產(chǎn)工藝要求

真空指標：極限真空：5.0E-5Pa（潔凈空載、有傘架、有護板、無基板情況下）
抽空時間：大氣至3.0E-3Pa≦15min 真空壓升率：≦0.5Pa/h（潔凈空載、抽空至極限真空后開始測試） 
烘烤指標：最高溫度300℃，多點控溫，測溫準確，PID智能溫控系統(tǒng)，溫度可控可調(diào)。 
光學實時監(jiān)控：先進的光學監(jiān)控系統(tǒng)，通過安裝在腔內(nèi)的監(jiān)控組件，實時監(jiān)控E-beam傘頂上基片的厚度并反饋回系統(tǒng)，通過饋入反饋信息控制成膜系統(tǒng)，達到實時監(jiān)控修正膜厚的目的。 
成膜系統(tǒng)：270°E型雙電子槍蒸發(fā)源，配備擋板，水冷坩堝有環(huán)形和多穴位坩堝可供選擇。IAD離子輔助成膜，提高光學膜層特性、改善基片表面活性及附著力等。

可按客戶要求提供多腔室方案。

設備主要用于：光學鏡片、鏡頭、光學儀器等領域，可實現(xiàn)增透、反射、分光、高反膜等功能，提高光學元件的性能和品質(zhì)。它在現(xiàn)代光學、光電技術及半導體等行業(yè)中發(fā)揮著重要作用。